Alimentation de pulvérisation cathodique moyenne fréquence série MSB
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Alimentation de pulvérisation cathodique moyenne fréquence série MSB
L'alimentation RF de la série RHH s'appuie sur une technologie de génération RF éprouvée pour offrir aux clients une puissance accrue, une précision accrue et une réactivité accrue. Elle est dotée de fonctions telles que le réglage de la phase, le contrôle des impulsions, le réglage numérique et d'autres fonctions. Domaines d'application : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoires, recherche scientifique, fabrication, etc.
Processus applicables : dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), gravure au plasma, nettoyage au plasma, source d'ions radiofréquence, diffusion au plasma, pulvérisation cathodique par polymérisation au plasma, pulvérisation réactive, etc.