Alimentation RF
-
Alimentation RF série RLS
L'alimentation RF de la série RLS adopte l'amplificateur de puissance stable et fiable actuel et le système de contrôle CC de base de l'entreprise, de sorte que le produit ait des performances très stables et une fiabilité élevée.Adoptez une interface d'affichage en chinois et en anglais, facile à utiliser.Principalement utilisé dans l'industrie photovoltaïque, l'industrie des écrans plats, l'industrie des semi-conducteurs, l'industrie chimique, les laboratoires, la recherche scientifique, la fabrication, etc.
-
Matchers de la série RMA
Il peut être adapté à l'alimentation RF de la série RLS et est largement utilisé dans la gravure au plasma, le revêtement, le nettoyage au plasma, le dégommage au plasma et d'autres processus.Lorsqu'il est utilisé seul, il peut être utilisé avec les alimentations RF d'autres fabricants.
-
Alimentation RF série RHH
L'alimentation RF de la série RHH s'appuie sur une technologie de génération RF mature pour fournir aux clients une alimentation RF avec une plus grande puissance, une plus grande précision et une réponse rapide.Avec la phase peut être réglée, contrôlable par impulsion, réglage numérique et autres fonctions.Domaines applicables : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoire, recherche scientifique, fabrication, etc.
Processus applicables : dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), gravure au plasma, nettoyage au plasma, source d'ions radiofréquence, diffusion au plasma, pulvérisation par polymérisation au plasma, pulvérisation réactive, etc.