L'alimentation RF de la série RHH s'appuie sur une technologie de génération RF mature pour fournir aux clients une alimentation RF avec une plus grande puissance, une plus grande précision et une réponse rapide.Avec la phase peut être réglée, contrôlable par impulsion, réglage numérique et autres fonctions.Domaines applicables : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoire, recherche scientifique, fabrication, etc.
Processus applicables : dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), gravure au plasma, nettoyage au plasma, source d'ions radiofréquence, diffusion au plasma, pulvérisation par polymérisation au plasma, pulvérisation réactive, etc.