Alimentation de pulvérisation cathodique
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Alimentation de pulvérisation cathodique moyenne fréquence série MSB
L'alimentation RF de la série RHH s'appuie sur une technologie de génération RF éprouvée pour offrir aux clients une puissance accrue, une précision accrue et une réactivité accrue. Elle est dotée de fonctions telles que le réglage de la phase, le contrôle des impulsions, le réglage numérique et d'autres fonctions. Domaines d'application : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoires, recherche scientifique, fabrication, etc.
Processus applicables : dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), gravure au plasma, nettoyage au plasma, source d'ions radiofréquence, diffusion au plasma, pulvérisation cathodique par polymérisation au plasma, pulvérisation réactive, etc.
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Alimentation de pulvérisation cathodique série MSD
L'alimentation CC pour pulvérisation cathodique de la série MSD intègre le système de contrôle CC de base de l'entreprise, associé à un excellent procédé de traitement de l'arc. Elle offre ainsi des performances très stables, une grande fiabilité, de faibles dommages à l'arc et une bonne répétabilité du processus. Son interface d'affichage est en chinois et en anglais, facile à utiliser.