Alimentation de pulvérisation
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Alimentation de pulvérisation moyenne fréquence série MSB
L'alimentation RF de la série RHH s'appuie sur une technologie de génération RF mature pour fournir aux clients une alimentation RF avec une plus grande puissance, une plus grande précision et une réponse rapide.Avec la phase peut être réglée, contrôlable par impulsion, réglage numérique et autres fonctions.Domaines applicables : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoire, recherche scientifique, fabrication, etc.
Processus applicables : dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), gravure au plasma, nettoyage au plasma, source d'ions radiofréquence, diffusion au plasma, pulvérisation par polymérisation au plasma, pulvérisation réactive, etc.
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Alimentation de pulvérisation série MSD
L'alimentation de pulvérisation CC de la série MSD adopte le système de contrôle CC de base de l'entreprise combiné à un excellent schéma de traitement de l'arc, de sorte que le produit ait des performances très stables, une fiabilité élevée du produit, de petits dommages à l'arc et une bonne répétabilité du processus.Adoptez une interface d'affichage en chinois et en anglais, facile à utiliser.